7月15日,应中科院低温工程学重点实验室低温材料及低温技术研究中心邀请,美国日立环球存储科技首席高级研发人员N. Shi博士来理化所进行学术交流,并作了题为Technology Transfer-from Science to Product的学术报告。
报告中,N. Shi博士介绍了目前最新的TB级硬盘垂直记录技术的理论基础和磁头制造工艺,重点讲述了从科学研究到产品制造这一过程的实现。
报告会后,N. Shi博士与赵震声副所长、李青研究员、李来风研究员进行了热烈的讨论,并参观了低温材料及低温技术研究中心实验室,对实验工作提出了一些意见和建议
N. Shi博士作报告